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辉光放电

[拼音]huī guāng fàng diàn


用词语辉光放电造句

  • 这些不同的辉光放电的鞘是低得多。
  • 最简单的放电产生方法是辉光放电。
  • 本文介绍用直流辉光放电装置制备非晶硅薄膜。
  • 与辉光放电相比,阴极位降相对较低的放电形式。
  • 研究了接触辉光放电等离子体降解水体中的酸性品红。
  • 阴极的温度是影响大电流辉光放电稳定工作的重要因素。
  • 本文叙述了辉光放电等离子体源的等离子体源离子注入。
  • 研制成一种以玻璃作为个电材料的管式辉光放电臭氧发生器。
  • 热阴极辉光放电的阳极区与阴极区一样,是一个很薄的区域。
  • 热阴极辉光放电的阳极区与阴极区一样,是一个很薄的区域。
  • 介绍了辉光放电光谱技术的原理及与其它表面分析技术的比较。
  • 它由真空主抽气系统、抽气偏滤器、直流辉光放电清洗系统组成。
  • 本文简要叙述了HL-1M的DC辉光放电清洗技术和放电结果。
  • 在采用双辉光放电实施的离子渗金属加工中,存在强烈的边角效应。
  • 从理论上研究了辉光放电时的离化率、正离子浓度、工件的加热问题。
  • 相对于常规冷阴极辉光放电而言,热阴极辉光放电是一种新型放电形式。
  • 利用同轴介质阻挡辉光放电装置在大气压流动氩中产生了均匀的等离子体射流。
  • 射频辉光放电硅烷等离子体化学汽相沉积是制备氢化非晶硅薄膜的主要工艺技术。
  • 它产生的高气压高电流密度辉光放电等离子体能够用来制作平面等离子体显示或光源。
  • 在交流电场中,利用介质阻挡层和高频激励源,可获得稳定均匀的大气压下辉光放电。
  • 用椭圆偏振光谱法研究了热处理对射频辉光放电淀积的氢化非晶碳膜光学性质的影响。
  • 探讨了与气体流动等条件相结合,用预电离方法实现大气压下空气中辉光放电的可能性。
  • 对大气压反常辉光放电条件下CH4 - CO2重整制合成气反应过程进行了数值模拟。
  • 本论文通过对反应器结构的改进,成功地研制出了大气压反常辉光放电等离子体化学反应器。
  • 文本研究了用电容耦合RF辉光放电和高压电晕放电产生的等离子体对聚丙烯材料表面改性。
  • 大电流热阴极辉光放电用于等离子体化学气相沉积金刚石膜,有效地提高了沉积速率和膜品质。
  • 采用蒙特卡罗方法对氮气辉光放电等离子体阴极区离子(N + 2)的运输过程进行了模拟。
  • 直流热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积法是我们建立的快速沉积高品质金刚石膜的新方法。